纯水需求选择EDI：

稳定及符合工业及需求为前提，避免漏水之运转设计，简易之配管及回路设计需求，提供完整之电源供应，可提供单一膜块独立电源供应，可显示个别膜块所消耗之电压及安培数，膜块设计可承受工作压力100psi，膜块设计可承受工作温度45℃（113 ），高温专用膜块可承受工作温度80℃（176 ），完全无需停机再生，影响制程，无需使用酸碱再生也无废水排放。，

EDI设备优点：
不耗酸、碱、自动再生
占地面积小，自动化程度高
出水质量高且可调整
单机产水量：50m3/h
产水电阻：≥15MΩ.cm（25℃）
适用于电厂化水、锅炉补给水、
冶金、汽车工业

工作流程：

     预处理——RO装置——中间水箱——中间水泵——EDI装置——纯水水箱——纯水泵——用水点