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EDI模块清洗

 

 

EDI 清洗
 
随着工作时间的累积,需要对EDI模块进行清洗及消毒,这是因为:
- 硬度或金属结垢,主要产生在浓水室内
- 在离子交换树脂或膜形成无机物污垢(例如,硅)
- 在离子交换树脂或膜形成有机物污垢
- EDI模块和系统管道及其它部件的生物污垢
- 以上所有情况一起出现
 
    在某些情况下,需要使用一种以上的清洗方法。以下的图表简要的概括了污垢情况以及清洗/ 消毒程序。例行的消毒一般使用高温消毒。低浓度的氧化剂消毒不可用于例行的消毒,只适用于严重的生物污堵的消毒, 消毒时先进行低浓度氧化剂消毒,再用高PH清洗。
 
问题
所需清洗 / 消毒
程序
硬度或其他金属 结垢
低 pH 值
浓水 : 程序 1, 极水 : 程序 3
有机污堵
高 pH
淡水 : 程序 2
有机污堵及硬度或其 他金属结垢
1. 低 pH 值
 
 
 
2. 高 pH 值
浓水 : 低 pH 程序 1;
高 pH 值, 程序 1
淡水 : 低 pH 程序 2;
高 pH 值, 程序 2
极水 : 低 pH 程序 3;
高 pH 值, 程序 3
生物污堵
高 pH 值
浓水 : 程序 1, 淡水 : 程序 2, 极水 : 程序 3,
生物污堵及硬度或其 他金属结垢
1. 低 pH 值
 
 
 
2. 高 pH 值
浓水 : 低 pH 程序 1;
高 pH 值, 程序 1
淡水 : 低 pH 程序 2;
高 pH 值, 程序 2
极水 : 低 pH 程序 3;
高 pH 值, 程序 3
 
严重的生物污堵
 
1.低浓度氧化剂消毒
 
 
 
2.高 pH 值
 
浓水 : 程序 1;
高 pH 值, 程序 1
淡水 :程序 2;
高 pH 值, 程序 2
极水 : 程序 3;
高 pH 值: 程序3
 
严重生污物堵及硬度 或其他金属结垢
 
1.低 pH 值
 
2.低浓度氧化剂消毒
 
3.高 pH 值
 
浓水 : 低 pH 程序 1;
高 pH 值, 程序 1
淡水 : 低 pH 程序 2;
高 pH 值, 程序 2
极水 : 低 pH 程序 3;
高 pH 值, 程序 3
 
 
 
清洗设备及说明
 
    对于清洗系统和消毒系统而言有四种类型:低pH值型;高pH值型;低浓度氧化消毒清洗型;及高温消毒型 。关于低 pH值型,高 pH值型,低浓水氧化消毒清洗型,及高温消毒型的描述在下面的内容中作详细阐述。当需要选择高温消毒时,则要启动高温消毒程序。
单独的清洗及消毒程序只针对淡水,浓水及极水管线而言。清洗及消毒的循环过程可独立完成。独立的循环程序也可同时进行以减少总的清洗时间。由于极水循环的低清洗流速,大多数情况下清洗过程必须同时与浓水循环清洗和淡水循环清洗同时进行。清洗水箱及水泵是必备的(CIP系统)。总共需要五条清洗流水线:两个进口(淡水进口和浓水进口) 以及三个出口(淡水出口,极水出口和浓水排放)。
 
为清洗过程设置CIP及EDI系统
 
参看以下独立循环清洗程序以了解最适合您的清洗模式。
•   排空清洗系统。
•   若是使用直通清洗方法,则不能在开始清洗之前或在清洗步骤之间排空 EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。若是使用再循环清洗方法,则在开始清洗之前或在清洗过程中排空EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。
•   通过关闭 EDI系统淡水进口,淡水出口,淡水冲洗出口,浓水排放,及极水出口阀将 EDI系统与上游及下游隔离开。
•   通过关闭浓水进口隔离阀来将浓水管线与淡水和极水管线隔离开。
 
清洗程序
 
清洗程序  1:  浓水管线清洗及消毒
清洗程序  2:  淡水管线清洗及消毒
清洗及消毒模式
•   首选清洗模式:直通,逆流(低及 高 pH值都可);再循环(氧化剂)
•   可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)
注意: 由于硬度结垢几乎完全发生在浓水室和极水室,淡水室的低PH清洗并不常用。在很严重结垢或十分混乱的条件下,需要保留淡水室的低PH清洗。
清洗程序  3:  极水管线清洗及消毒
清洗及消毒模式
•   直通逆流(低及 高 pH值都可)再循环(氧化剂)
•   可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可
 

 

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